用于貴金屬薄膜涂層設(shè)備MSP-1S的特點(diǎn)

發(fā)布日期：2023-03-20      瀏覽次數(shù)：444

用于貴金屬薄膜涂層設(shè)備MSP-1S的特點(diǎn)

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜,實(shí)際上,這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.此外,該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,包括了光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等.早在1970年,已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例,開(kāi)發(fā)了多種光學(xué)膜層材料.這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中。



該設(shè)備專(zhuān)用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀(guān)察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外，樣品臺(tái)是浮動(dòng)的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡(jiǎn)單，只需按一下按鈕，就沒(méi)有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。

產(chǎn)品特點(diǎn)

★MSP-1S是掃描型電子顯微鏡（SEM）觀(guān)察用離子濺射成膜裝置。

★目標(biāo)是標(biāo)準(zhǔn)裝備金鈀（Au-Pd）?？蛇x擇金（Au）、鉑（Pt）、鉑鈀（Pt-Pd）。

★樣品臺(tái)采用減輕離子損傷的浮動(dòng)方式。

★低電壓涂層，即使是敏感的樣品也幾乎沒(méi)有樣品損傷。

★用1個(gè)按鈕全自動(dòng)進(jìn)行排氣、涂層、泄漏。

★排氣系統(tǒng)內(nèi)置RP10升/min。