磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

發(fā)布日期：2023-04-10      瀏覽次數(shù)：1949

磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

磁控濺射儀是一種利用物理氣相沉積的方法在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）薄膜的設備，常用于掃描電鏡（SEM）的樣品制備以及電極制備。它可在較短時間內(nèi)形成具有細粒度的均勻薄膜，最常見的靶材是金靶，所以磁控濺射儀也俗稱“噴金儀"。

在封閉腔室中，放置陽極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽極和陰極之間加載高壓，會發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會因此向四周擴散，并在樣品上沉積，最終在樣品表面形成一個均勻的鍍層。這個鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率，從而改善掃描電鏡觀察效果。



該設備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，樣品臺是浮動的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單，只需按一下按鈕，就沒有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途

用于 SEM 樣品的金屬涂層設備。

特點 

●磁控型濺射，采用較低外加電壓減輕樣品的離子損傷。 

●真空度調(diào)節(jié)：適合磁控離子濺射的真空度是 6-8Pa,MSP-1S 通 過機械泵抽泣與泄露閥漏氣的平衡，使樣品倉自動保持在適合的 真空度范圍內(nèi)，不需要手動做壓力調(diào)整。 

●浮動樣品臺設計：樣品臺是浮動型并與樣機電機絕緣，可讓電子 不通過樣品而使溫度上升很少。 

●占地面積：臺式設計，內(nèi)置機械泵，只需要有 20cm×40cm 的占 地面積，重量只有 14.6Kg。