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日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

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更新日期:2024-03-22

簡(jiǎn)要描述:

日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。

日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
動(dòng)力類型電動(dòng)布局形式其他

日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

低價(jià)UV納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential


納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號(hào) ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號(hào)。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
2. *降低成本,實(shí)現(xiàn)低價(jià)!
3.支持消泡氣工藝!
4.兼容各種模具!
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級(jí)!

日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注,它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號(hào) ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號(hào)。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
2. *降低成本,實(shí)現(xiàn)低價(jià)!
3.支持消泡氣工藝!
4.兼容各種模具!
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級(jí)!

特征

1.實(shí)現(xiàn)高精度結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移


數(shù)據(jù)庫(kù)校正后停止位置和位置偏移
具有*并聯(lián)機(jī)構(gòu)的“軟載物臺(tái)"實(shí)現(xiàn)了精細(xì)的轉(zhuǎn)印操作,可最大限度地減少轉(zhuǎn)印缺陷和納米級(jí)圖案形成。此外,新開(kāi)發(fā)的 LED 光源可實(shí)現(xiàn)均勻的紫外線照射,并實(shí)現(xiàn)低邊緣粗糙度。


2.支持消泡氣工藝


消泡氣體工藝與大氣工藝的比較
該設(shè)備與消泡氣體工藝兼容(可選)。
即使在大氣印記中,氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發(fā)生。

3.兼容各種模具


模具尺寸 □ 可以從 10 mm 轉(zhuǎn)移到最大 90 mm。
除石英外,還可以選擇使用其他材料,例如電鑄鎳。



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