日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型

特征

• 節(jié)省空間的桌面理想之選

• 高速處理時(shí)間

• 僅 AC100V 電源

• 配備加工時(shí)間設(shè)定定時(shí)器

• 門聯(lián)鎖設(shè)備

• 配備臭氧消減處理裝置

• 不使用汞燈

• 內(nèi)置高度調(diào)節(jié)臺(tái)

通過(guò)簡(jiǎn)單的基本設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高性能。

使用EXIMA UV光源進(jìn)行光表面處理，可以對(duì)薄膜材料等易受熱的物體進(jìn)行低溫表面處理，因?yàn)楸徽丈湮矬w的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學(xué)反應(yīng)具有不易損壞工件的特點(diǎn)。

應(yīng)用示例

• 潤(rùn)濕性、親水性、親和性提高

• 提高接合面的附著力

• 表面改性

• 有機(jī)物分解清洗

基本規(guī)格

日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型

實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子 172nm 紫外光源

型號(hào)：E500-172-110

以簡(jiǎn)單的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)低成本和高性能。可以立即打開(kāi)和關(guān)閉。風(fēng)冷準(zhǔn)分子燈是研究和開(kāi)發(fā)的理想選擇。準(zhǔn)分子紫外燈的光學(xué)表面處理由于準(zhǔn)分子燈的特性，工件的溫度不易升高，因此對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行精確的低溫表面處理非常出色。

基本規(guī)格