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日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW 光學(xué)測(cè)量?jī)x

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更新日期:2024-03-22

簡(jiǎn)要描述:

日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW
光學(xué)分辨率1.8μm,速度檢測(cè)!
用于基板和金屬表面的缺陷檢測(cè)!

日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW 光學(xué)測(cè)量?jī)x
產(chǎn)品種類(lèi)臺(tái)式數(shù)顯功能
溫控功能無(wú)產(chǎn)地進(jìn)口

日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW

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光學(xué)分辨率1.8μm,速度檢測(cè)!

用于基板和金屬表面的缺陷檢測(cè)!

概述

使用高分辨率相機(jī)和高精度 XY 載物臺(tái)的二維檢測(cè)系統(tǒng)。
適用于光學(xué)薄膜、片材、觸控面板等表面劃痕、異物、缺陷的檢測(cè)。
憑借 1.8 μm 的光學(xué)分辨率,可以進(jìn)行超高清檢測(cè)。
它還可以測(cè)量尺寸和檢查二維沖壓產(chǎn)品。

特征

  • 自動(dòng)保存檢測(cè)數(shù)據(jù)和圖像

  • 攝像頭像素:900萬(wàn)像素

  • 高光學(xué)分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細(xì)的檢測(cè)點(diǎn)。

  • 適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細(xì)布線是否有斷線和短路。

用法

用于檢查觸摸面板和異物等缺陷!



  • 觸控面板周邊電極缺陷檢測(cè)

  • 板材表面劃傷和異物檢查

  • 基板缺陷檢查

系統(tǒng)配置

日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW

光學(xué)分辨率1.8μm,速度檢測(cè)!

用于基板和金屬表面的缺陷檢測(cè)!

概述

使用高分辨率相機(jī)和高精度 XY 載物臺(tái)的二維檢測(cè)系統(tǒng)。
適用于光學(xué)薄膜、片材、觸控面板等表面劃痕、異物、缺陷的檢測(cè)。
憑借 1.8 μm 的光學(xué)分辨率,可以進(jìn)行超高清檢測(cè)。
它還可以測(cè)量尺寸和檢查二維沖壓產(chǎn)品。

特征

  • 自動(dòng)保存檢測(cè)數(shù)據(jù)和圖像

  • 攝像頭像素:900萬(wàn)像素

  • 高光學(xué)分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細(xì)的檢測(cè)點(diǎn)。

  • 適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細(xì)布線是否有斷線和短路。

用法

用于檢查觸摸面板和異物等缺陷!



  • 觸控面板周邊電極缺陷檢測(cè)

  • 板材表面劃傷和異物檢查

  • 基板缺陷檢查




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