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日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3

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更新日期:2024-03-23

簡(jiǎn)要描述:

日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊(總長(zhǎng)度 237 mm),但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。

日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
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日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3

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Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊(總長(zhǎng)度 237 mm),但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。

特點(diǎn)
●重新設(shè)計(jì)的離子源減少了污染物的影響,延長(zhǎng)了使用壽命,并提供清晰的信號(hào)來(lái)自雙離子源的一個(gè)離子流被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量,另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這使得連續(xù)的總壓力測(cè)量具有比離子堿更高的精度。 這改善了高壓范圍內(nèi)的靈敏度損失,并以1.1 Pa為單位實(shí)現(xiàn)了測(cè)量精度。

●在PVD工藝壓力下運(yùn)行的新型EM(二次電子倍增管)可實(shí)現(xiàn)快速干凈的數(shù)據(jù)收集,并且無(wú)需從FC更改為EM而便于數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換
●新型擴(kuò)展四極桿提高了低質(zhì)量范圍內(nèi)的過濾性能和豐度靈敏度,以及氫氣檢測(cè)靈敏度

應(yīng)用實(shí)例 

?PVD工藝模塊

?預(yù)清洗模塊

?脫氣模塊

雙離子源經(jīng)過改進(jìn),可最大限度地減少污染物的影響,從而延長(zhǎng)離子源的使用壽命。

來(lái)自該雙離子源的離子流之一被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量,另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這允許以比離子計(jì)更高的精度連續(xù)測(cè)量總壓力。

日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3

產(chǎn)品規(guī)格

質(zhì)量范圍1~100(阿姆)
分辨率< 1@10%,在質(zhì)量 4、20、28、40 下測(cè)量(根據(jù) 1993 年 AVS 建議)
質(zhì)量過濾器類型四極桿
探測(cè)器類型離軸 FC 和微通道板 EM
溫度系數(shù)<1% / 1°C 作為峰高(在 FC 信號(hào) Ar 1.3E-2Pa 時(shí))
質(zhì)量峰穩(wěn)定性24小時(shí)內(nèi)<0.1amu (FC信號(hào)Ar 1.3E-2Pa,STP常數(shù))
質(zhì)量峰比穩(wěn)定性24小時(shí)內(nèi)<2%(2/40,4/40,20/40,28/40)
靈敏度(標(biāo)稱)FC@40eV/200μA:≧3E-9安培/帕
EM@40eV/200μA:≧3E-5安培/帕
最小檢測(cè)分壓FC@40eV/200μA:≧3E-7Pa
EM@40eV/200μA:≧8E-10Pa
最大工作壓力光纖通道或電磁程:2.6Pa(線性操作:1.3Pa)
傳感器最高工作溫度(最高烘烤溫度
150°C(200°C:去除浮渣)
PPM 檢測(cè)限值10ppm(@0.13~0.65Pa工藝壓力)
工作溫度20~50°C
輸入功率20~30VDC,9針D型連接器(公頭),內(nèi)部與系統(tǒng)接地隔離
RS232串行通訊接口非隔離,波特率 1200~9600 波特,9 針 D 連接器(母頭)
RS485 通信接口
(可尋址)
隔離,固定波特率 (57,600),半雙工,固定地址 1~31,9 針 D 連接器(母頭)
繼電器輸出4個(gè)系統(tǒng),24V-0.5A(工作狀態(tài)×1,極限設(shè)定點(diǎn)×3)
輸入2路非隔離×TTL輸入,2路觸點(diǎn)輸入,0路差分模擬×輸入,10~<>VDC





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